紫外臭氧在半导体和电子零件领域清洗应用

UV-O3已广泛应用于半导体和电子零件的去污，以及光学材料和元件、碳纳米管和金属、聚合物、纺织品和织物、生物材料、用作参考标准的物质等各种去污应用，甚至从矿石中回收贵金属。

该过程通常是表面准备中去污步骤，以在涂层、粘合、气相沉积或粘合之前实现无污染表面。

UV-O3 净化应用示例如下：

· 硅晶片、砷化深晶片、敏感透镜、反射镜和其他光学元件、太阳能电池板、石英和陶瓷表面、冷槽钢和惯性制导组件的原子清洗。

· 清洁硅和氮化硅原子力显微镜/表面探针显微镜尖端。

· 玻璃和微晶玻璃元件去污：平板液晶显示器（LCD）制造、等离子电视生产、蒸煮盘去污、石英振荡器制造、透镜、棱镜和反射镜等光学元件去污、压电蜂鸣器器件去污、陶瓷大件- 规模集成基板和其他组件。

· 平板电视端子生产过程中的金属清洗、集成电路IC焊线、微电机转轴清洗、激光打印机镜面去污、半导体树脂模具清洗等应用。

· 在薄膜沉积之前对基材进行紫外线净化。

· 长期存放时保持表面清洁。

· 表面等离子体共振芯片和石英晶体微天平传感器的去污。

· MEMS 和玻璃器件的去污。

· 去除混合电路中的剩余磁通。

· 晶圆测试后去除墨水。

· 去污以提高油漆、涂料和粘合剂的附着力。

· 提高薄膜沉积质量。

· 剥离光刻胶。

· 光刻版的潜像去除和一般去污。

· 电路板封装前去污。

· 用于电子和机械显微镜的样品、表面、探针和显微镜载玻片的净化。

· 生物医学应用的去污和灭菌。