半导体微电子领域中等离子清洗设备是什么？

等离子清洁设备通常比紫外线臭氧设备更大、更昂贵且更复杂。耗材包括一个真空泵、一个几百瓦的射频发电机和纯气体（通常是氧气和氩气，在某些情况下还有氢气）。

本质上，等离子清洗是一种批量清洗方法，而紫外线臭氧可用于传送带的在线系统。使用时，将设备置于真空室中，引入适当的气体，开启射频电源1~15分钟即可完成清洗过程。

近年来，引入了一种简单、便宜的等离子清洁系统，它本质上是一个微波炉。将要等离子清洗的样品放在微波炉外壳内的玻璃室内。当磁控管打开时，会产生频率非常高（约 2.5GHz）的感应等离子体。这是目前常用于实验室清洁的商业产品。

然而，还没有独立的出版物将微波等离子清洗机与传统的等离子清洗机进行引线键合清洗或敏感芯片无损清洗的例子进行比较。

在微电子领域使用等离子清洗是为了去除晶圆上光刻胶的污染。然而，特别是，已经有大量研究使用等离子清洗方法去除污染物。