紫外臭氧表面清洁应用原理

去除表面污染物对于所有工艺都是必不可少的：在这些工艺中，必须以某种方式对受污染的表面进行改性，以便进行后续处理，例如薄膜沉积、粘合或表面图案化。

因为表面的有机和无机污染物通常会导致粘合不牢固，甚至影响粘合的耐久性，导致粘合产品失效。湿洗和干洗是在各种工业应用中去除表面污染物的成熟工艺。

许多传统上用于湿式清洁的溶剂对环境有害，例如 HCFC，其使用越来越受到限制并被淘汰。

因此，人们一直在努力寻找其他方法来代替溶剂清洗法。激光、微研磨、等离子、紫外线-臭氧（UV-O3）、固态气体颗粒或软雪（CO2、Ar-N2）、静电、水冰晶、微纳米粒子束等干洗方式，以及高速喷气式飞机已经开发出来并已商业化。在这些技术中，UV-O3 是将表面有机污染物去除到接近原子水平的有效方法。与其他干法表面处理技术相比，UV-O3处理的明显优势是可以在常压下操作，因此设备和运行成本相对较低。

特别是，包含质子、电子、离子、自由基和激发态物质的复杂混合物的气体等离子体（氧、氢等离子体）可以产生显着的发射效应。相比之下，由于不存在高能粒子，UV-O3 清洁比氧等离子体更温和，这意味着 UV-O3 清洁方法可以在各种应用中形成对基于氧或氢等离子体的传统去污技术的有效替代。